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      四氟甲烷也叫作四氟化碳，是一種不可燃氣體，但是在遇到高溫天氣下，容器內的壓力增大，就會有裂開或者爆炸的危險。如果遇到著火，噴水讓容器冷卻下來，有可能的話可以將容器轉移到空曠地方。四氟化碳的主要用途用作低溫制冷劑和集成電路的等離子干法蝕刻技術。通常情況下用鋼質氣瓶包裝運輸。

      四氟甲烷的下游產品為硅薄膜材料、 二氧化硅薄膜材料、氮化硅薄膜材料、磷硅玻璃薄膜材料、鎢薄膜材料等薄膜材料、電子器件表面清洗劑、太陽能電池、去污劑、潤滑劑、制動液、安全自爆防爆式干粉滅火器。

      四氟甲烷CF4的合成方法目前有四種，烷烴直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氫氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法等。烷烴直接氟化法是工業上最早采用這種方法來制備氟代烷烴, 但該反應劇烈放熱, 難以控制, 需要采用特別的措施。

      通常情況下四氟甲烷放置在陰涼通風的環境下，遠離易燃的物品，放置物品庫存不宜超過30度，與氧化劑分開儲存。CF4為代表的全氟甲烷廣泛應用于微電子行業中的等離子體蝕刻氣體，世界需求量日益增長，市場前景向好。目前國內還需加強以CF4為代表的全氟烷的生產與研究。