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四氟甲烷（CF4）具有高穩定性，屬于完全不燃氣體，常溫下不與酸、堿及氧化劑反應，900℃以下不與Cu,Ni,W,Mo等過渡金屬反應，1000℃以下不與碳、氫及CH4反應。室溫下可與液氨-金屬鈉試劑反應，高溫下CF4可與堿金屬、堿土金屬及SiO2反應,生成相應的氟化物。CF4在800℃下開始分解，在電弧作用下可與CO和CO2反應生成COF2，有人還試圖在碳弧溫度中使CF4聚合來合成其他碳氟化合物。

四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于化學穩定性極強，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業等。當今超大規模集成電路所用電子氣體的特點和發展趨勢是超純、超凈、多品種、多規格，各國為推動本國微電子工業發展，越來越重視發展特種電子氣體的生產技術。就目前而言，四氟化碳（CF4）以其相對低廉的價格長期占據著蝕刻氣體市場，因此具有廣闊的發展潛力。下游產品例舉：硅薄膜材料、二氧化硅薄膜材料、氮化硅薄膜材料、磷硅玻璃薄膜材料、鎢薄膜材料等薄膜材料、電子器件表面清洗劑、太陽能電池、去污劑、潤滑劑、制動液、安全自爆防爆式干粉滅火器。

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